Aixtron liefert MOCVD-System für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University

Aixtron liefert MOCVD-System für Galliumoxid-Forschung an die Ohio State University

Die Ohio State University (OSU) hat ein spezialisiertes Metal-Organic Chemical Vapour Deposition-System (MOCVD) des Herstellers Aixtron für die Spitzenforschung an Galliumoxid ausgewählt. Die neue Anlage, die im Nanotech West Lab der OSU installiert wurde, soll die Entwicklung fortschrittlicher Leistungselektronik vorantreiben. Galliumoxid gilt als überlegenes Material für Anwendungen mit hoher Spannung und extremen Temperaturen und gewinnt zunehmend an Bedeutung.

Aixtrons Close Coupled Showerhead®-System (CCS) wurde aufgrund seiner Fähigkeit ausgewählt, hochwertige, gleichmäßige Dünnschichten aus Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid herzustellen. Das System ermöglicht das epitaktische Wachstum auf 100-Millimeter-Substraten und bietet präzise Kontrolle über die Materialeigenschaften. Die Installation am Institute for Materials and Manufacturing Research der OSU markiert für Aixtron einen strategischen Schritt im aufstrebenden Bereich der Halbleiter der nächsten Generation.

Galliumoxid wird als bahnbrechendes Material für die Leistungselektronik angesehen und übertrifft herkömmliche Halbleiter unter extremen Bedingungen. Dank seiner hohen Elektronenbeweglichkeit und Durchbruchspannung eignet es sich ideal für Erneuerbare-Energien-Systeme, Elektrofahrzeuge sowie 5G-/6G-Kommunikation. Die globale Nachfrage nach Halbleitern auf Galliumoxid-Basis ist stark gestiegen – mit einem jährlichen Wachstum von 25 bis 30 Prozent zwischen 2023 und 2025, angetrieben durch steigende Galliumpreise und Investitionen in effiziente Energietechnologien.

Obwohl der finanzielle Effekt dieses Einzelauftrags bescheiden bleibt, festigt er Aixtrons Position als Pionier in der Galliumoxid-Technologie. Während Wettbewerber sich auf etablierte Materialien konzentrieren, treibt Aixtron bereits die nächste Innovationswelle voran. Das wachsende Vertrauen der Anleger spiegelt sich in der Aktienperformance wider: Der Kurs notiert bei 18,79 Euro, deutlich über dem 200-Tage-Durchschnitt, mit einem Zuwachs von fast 40 Prozent seit Januar.

Die Zusammenarbeit zwischen der OSU und Aixtron unterstreicht den Ruf des Unternehmens als führender Anbieter von MOCVD-Systemen für die Galliumoxid-Forschung. Dieser Schritt entspricht der steigenden Nachfrage der Industrie nach Hochleistungshalbleitern in den Bereichen Energie, Automobil und Telekommunikation. Die frühe Einführung der Technologie könnte Aixtrons Rolle bei der Gestaltung der Leistungselektronik der Zukunft weiter stärken.